光刻瓶颈

国内团队称破解芯片光刻瓶颈问题

说白了,这波热度不是因为哪家公司业绩爆表,而是因为一篇论文把“看不见的事儿”给看清了。论文登在《Nature Communications》,第一作者和主攻团队来自北京大学化学与分子工程学院,负责人是彭海琳。关键点是:他们把冷冻电子断层扫描(Cryo-ET)这

芯片 光刻 液膜 芯片光刻 光刻瓶颈 2025-10-28 12:58  2